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Melec的電源脈沖發生器可實現多種用途，憑借現有的直流電源配上Melec的電源脈沖發生器即可實現單極脈沖、雙極脈沖、偏壓以及HiPIMS高能脈沖電源等功能。

NiCr靶使用直流及HiPIMS晶體結構對比

以HiPIMS高能脈沖為例，相較于直流電源，離化率更高，沉積的薄膜附著力更好，從上圖可以看出，直流電源沉積出的為柱狀結構，而HiPIMS電源沉積出的為玻璃狀結構，膜層更致密。

Melec的電源脈沖發生器主要分為研發領域使用的SIPP2000系列以及工業領域使用的SPIK系列，其中SIPP2000系列分為單極和雙極兩種，SPIK系列分為SPIK1000A、SPIK2000A和SPIK3000A三種。SPIK系列涵蓋的功率范圍可從0.5KW到30KW。

Melec電源脈沖發生器，除了單獨產生脈沖之外，也可進行疊加使用，根據不同的應用以及不同的基材等，進行各種不同的疊加。

對于單靶或者單弧源來說，可以進行直流和單極HiPIMS高能脈沖、直流和單極脈沖以及單極脈沖和單極HiPIMS高能脈沖疊加，實現共濺射的功能。